钛铂合金溅射靶-「钛铂合金回收」

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2020年5月27日15:15:11
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钛铂合金溅射靶特性(理论值)

复合配方
分子量242.95
出现灰色金属固体
熔点不适用
沸点不适用
密度不适用
在水中的溶解度不适用
精确质量242.912735克/摩尔
单同位素质量242.912735克/摩尔

关于钛铂合金溅射靶
American Elements专业生产具有最高密度高纯度(99.99%)钛铂合金溅射靶和最小平均晶粒度的高纯度钛铂合金溅射靶,用于半导体,化学气相沉积(CVD)和物理气相沉积(PVD)显示器和光学应用。我们提供的用于薄膜沉积的标准溅射靶材可整体使用,也可与平面靶材尺寸和结构结合使用,最大可达820 mm,并具有钻孔位置,并设计有可与旧式溅射设备以及最新工艺设备一起使用的螺纹,坡口,凹槽和衬背,例如用于太阳能或燃料电池的大面积涂料和倒装芯片应用。旋转(圆柱),圆形,矩形,正方形,环形,环形,椭圆形,“狗骨”形和其他形状的目标物有标准尺寸,定制尺寸和研究尺寸。使用包括X射线荧光(XRF),辉光放电质谱(GDMS)和电感耦合等离子体(ICP)在内的最佳论证技术分析所有目标。使用结晶,固态和其他超高纯工艺(例如升华)生产材料。American Elements专门生产用于商业和研究应用以及新专有技术的定制组合物。请索取以上报价,以获取更多交货时间和价格信息。

钛铂合金溅射靶-「钛铂合金回收」
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